EPFL研究人员开发了一种新的高精度技术，使他们能够将纳米图案雕刻成二维材料。 这项新技术允许研究人员用微型手术刀打破原子之间的联系。 研究小组说，用传统的光刻技术对材料进行结构加工是非常困难的。

传统的光刻技术使用侵略性的化学物质或加速的带电粒子，如电子或离子。 问题是这些方法会破坏材料的性能。 该新技术使用局部热源和压力源精确地切割到材料上。 该团队将其技术描述为类似于剪纸艺术，但规模要小得多。

该技术使用热来修改基板，使其更加灵活。 在某些情况下，它甚至可以变成气体。 经过这个过程，2D材料可以更容易地雕刻。 在他们的研究中，研究小组使用了与石墨烯相似的2D材料——二萜化钼。 材料小于纳米厚。

二碲钼被放置在对温度变化反应的聚合物上。 当聚合物暴露在热中时，它会升华，从固体变成气态。 研究人员将一个锋利的纳米尖端加热到180°C以上，并使其与二维材料接触，然后施加一点力。

计算机驱动的系统控制超快加热和冷却过程以及尖端的位置。 该系统允许研究人员制作预先定义的缩进，以创建用于纳米电子设备的纳米支架。 科学家说，他们的通用技术将在纳米电子学、纳米光子学和纳米生物技术领域有用，以使电子元件变得更小和更有效。